电化学的抛光方法相对来说是十分不错的，这种抛光方法对平面抛光机来讲，较大的一个优点就在于整个镜子面儿光泽程度保持得相对较长，并且工艺也是十分安稳的，污染特别的少，成本也是比较低的，乃至整个防腐蚀功能也是十分不错的，可是他们的缺点也就是防污染功能相对较高，对整个设备在加工的过程当中，投资的份额仍是十分大的，并且一切的复杂零部件全部都要进行重新安装，他们需求大量的设备来进行生产和降温。
另外，平面抛光机的化学抛光方法基本上也是十分受欢迎的，他们在实际进行加工的过程当中，设备的投资十分少，并且复杂的零部件能够进行多方面的抛光，速度相对来说要比效率高许多，不过这样的一种抛光方式，亮度会十分的差，气体简单溢出来，乃至他们在实际进行抛光的过程当中，将有着各种不同的抛光方式。
在平面抛光机加工中，选择合理的运动方法以及抛光轨道是极为重要的一步，抛光运动和抛光轨道将会直接影响到抛光的精度以及生产的效率。所以，平面抛光机在抛光加工运动中，抛光运动和轨道应满意以下几点。
1、在加工工件时，平面抛光机整个抛光运动自始至终都应该力求平稳。
2、抛光运动应该确保工件可以均匀地接触抛光抛光盘的全部表面。
3、所选用的抛光运动应使运动轨道不断有规则地改变方向，尽量防止过早地出现重复。
4、在平面抛光机的抛光运动中，研具与工件之间处于起浮的状态，而不应是强制的限位状态。
5、抛光运动应确保工件受到均匀抛光即被研工件表面上的每一点所运动的路程应尽量持平。
为了确保平面抛光机平稳，装置抛光机的地方要平整，而且坚固，抛光是不能装置在木质地板上。另外，在抛光过程中要使用抛光液，抛光液可以进步抛光效果。
