平面抛光机镜面加工技术是一门新兴的综合性加工技术，它集成了现代机械、光学、电子计算机、丈量及资料等先进技术成就，已成为国度科学技术开展程度的重要标志。随着各种新型功用陶瓷资料的不时研制胜利，以及这些资料在各种高性能电子元器件、光学、信息系统等范畴的普遍应用，请求元件和零件的加工精度越来越高，有的以至请求到达纳米级或更高的加工精度以及无损伤的外表加工质量。
关于抛光来说，主要是在维持研磨所获得良好的平面度前提下，去除工件外表微小的凸起和外表损伤层，以取得镜面光度。所以请求均与、无方向性地抛光整个工件外表。反映在抛光机速度上，就是工件外表上每一点的相对速度大小应在任何时分都坚持恒定。
工件是不变形的刚体，抛光机的抛光盘是能按工件加工面外形变形的弹性体。这时能够疏忽介于两者之间的磨粒与加工液的厚度和外形变化，以为工件与抛光盘间全面贴紧；当工件尺寸大于抛光盘半径，或偏心距过大时，工件会显露抛光盘，既有一局部外表不能与抛光盘一直接触；当研磨或抛光过程中，工件资料平行度误差超出允许范围时就需求对其平行度停止修正。在平面抛光机的镜面抛光加工工序中，能够以为工件的去除量主要是由打磨途径的长度决议的，因而直接控制工件外表的打磨途径长度可以愈加准确控制工件的去除量。
